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PVD真空電鍍?nèi)绾喂ぷ鳎?/p>

來(lái)源:長(zhǎng)辰實(shí)業(yè)  日期:2021-11-23

當(dāng)產(chǎn)品經(jīng)PVD真空電鍍時(shí),將其置于夾具中并置于真空容器中。將裝置抽真空至所需的真空壓力。根據(jù)基材和使用的工藝,產(chǎn)品將被預(yù)熱并進(jìn)行濺射清潔。

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        在濺射清潔完成之后,向陰極材料施加負(fù)電荷,并且如果基板是導(dǎo)電的,則向基板施加負(fù)偏壓。PVD真空電鍍的沉積材料以高能量水平到達(dá)基板,并沿基板表面行進(jìn),直到達(dá)到優(yōu)選的成核位置。從源頭連續(xù)轟擊離子會(huì)濺射沉積材料,因此您不會(huì)遇到電鍍涂層常見(jiàn)的大邊緣堆積。

            長(zhǎng)辰真空電鍍工廠提醒您,小心控制這種PVD真空電鍍的轟擊,以免使基板過(guò)熱。由于到達(dá)產(chǎn)品表面的離子的較高能級(jí),粘附性顯著優(yōu)于電鍍提供的粘附性。繼續(xù)沉積,直到達(dá)到所需的涂層厚度,并從腔室中取出部件。微處理器控制整個(gè)沉積過(guò)程,以確保每次加工產(chǎn)品時(shí)都能獲得一致的結(jié)果。

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