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PVD涂層是指在真空條件下使用低電壓、大電流電弧放電技術(shù)，利用氣體放電蒸發(fā)目標和電離蒸發(fā)的物質(zhì)和氣體，利用電場加速將蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。PVD涂層是一個復(fù)雜的過程，尤其是應(yīng)用于工具和模具的PVD涂層，要求涂層的各個方面都具有很高的性能。影響涂裝性能的因素很多。

1.薄膜的生長提高了溫度，有利于薄膜的結(jié)構(gòu)和性能。氮鈦、氮鈦等涂層。在400-600℃的合適溫度下，可以獲得更好的硬度和結(jié)合力。

2.PVD鍍膜過程中的溫度與結(jié)合力、硬度等無線關(guān)系。涂裝過程中，溫度過低，薄膜生長不足，表面粗糙，耐腐蝕性和顯微硬度降低。高溫容易產(chǎn)生粗大的柱狀晶體。導(dǎo)致基材結(jié)構(gòu)惡化，結(jié)合力下降，薄膜性能下降。

3.提高襯底溫度可以去除揮發(fā)性殘留物，增強表面擴散和再結(jié)晶。加速界面反應(yīng)，擴散底層雜質(zhì)?；|(zhì)融化。

增大晶體顆粒的大小。促進再結(jié)晶界面的延伸生長，降低內(nèi)應(yīng)力，增加階梯覆蓋率，增加與襯底相互作用所需的涂層溫度，取決于工件的金相結(jié)構(gòu)、熱處理、幾何形狀，如銳邊、薄板的快速加熱和溫度測量?；⌒坞娏??；w偏壓和反應(yīng)壓力也會影響溫度。涂層可以從180開始。工件應(yīng)在不會引起材料物理變化的溫度下涂覆。

4.PVD涂層溫度超過回火點，軟化工件。

5.如果鍍膜真空室零件少，工件周圍會聚集更多的等離子體，導(dǎo)致工件溫度高，沉積率高。