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高爾夫金屬配件PVD真空電鍍

真空濺射鍍膜

1、真空濺射鍍膜的定義

給靶材施加高電壓(形成等離子狀態(tài)),使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈,而在樣品表面形成金屬皮膜的方法。

2、磁控濺射鍍膜的定義

電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片,氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。

產品說明

真空濺射鍍膜的特點

對于任何待鍍材料,只有能做成靶材,就能實現濺射

濺射所獲得的薄膜與基片結合良好

濺射所獲得的薄膜純度高,致密性好

濺射工藝可重復性好,膜厚可控制,同時可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜

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