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 真空鍍膜機(jī)離子鍍技術(shù)市場(chǎng)使用占比率非常高，鍍餐具，鍍家居，鍍飾品等都離不開離子鍍膜技術(shù)，離子鍍膜技術(shù)不僅僅在國內(nèi)受追捧，國外也是一樣受喜愛。那么，真空鍍膜設(shè)備離子鍍的類型及特點(diǎn)是怎樣的？下面小編為大家詳細(xì)介紹一下：

離子鍍是結(jié)合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術(shù)而發(fā)展起來的沉積技術(shù)。在真空條件下，采用適當(dāng)?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構(gòu)成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質(zhì)廣、沉積速率快等優(yōu)點(diǎn)。
 
離子鍍的種類及其特點(diǎn)：

直流放電法  電阻  輝光放電dc:0.1kv～5kv  惰性氣體1pa，0.25ma/cm2  結(jié)構(gòu)簡單，膜層結(jié)合力強(qiáng)，但鍍件溫升高，分散性差！ 耐熱，潤滑等鍍件

弧光放電法  電子束、燈絲  弧光放電dc:100v 高真空1.33x10-4pa  離化率高，易制成反應(yīng)膜，可在高真空下成膜，利于提高質(zhì)量  切削工具、金屬裝飾等鍍件

空心陰極法  空心陰極  等離子體電子束dc:0v～200v 惰性氣體或反應(yīng)氣體  離化率高，蒸發(fā)速度大，易獲得高純度膜層  裝飾、耐磨等鍍件

調(diào)頻激勵(lì)法  電阻、電子束  射頻電場(chǎng)13.56mhzdc:0.1kv～5kv 惰性氣體或反應(yīng)氣體  離化率高，膜層結(jié)合力強(qiáng)，鍍件溫升低，但分散性差  光學(xué)、半導(dǎo)體等鍍件

電場(chǎng)蒸發(fā)法  電子束  二次電子dc:1kv～5kv 真空  不純氣體少，能形成較好的膜  電子元件

多陰極法    電阻、電子束 熱電子dc:0v～5kv 惰性氣體或反應(yīng)氣體 低速電子離化效果好  裝飾、電子、精密機(jī)械等零件

聚焦離子束法 電阻 聚集離子束dc:0v～5kv 惰性氣體  因離子聚束，膜層結(jié)合力強(qiáng)  電子元件

活性反應(yīng)法 電子束 二次電子dc:200v 反應(yīng)氣體o2、n2、ch4、c2h4等  金屬與反應(yīng)氣體組合能制備多種傾倒物膜層 電子、裝飾、耐磨等鍍件。