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真空在鍍膜工業(yè)中的應(yīng)用

來源:長(zhǎng)辰實(shí)業(yè)  日期:2022-01-14

真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個(gè)重要分支,它已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā),理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。

  如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能的話,這一技術(shù)又是真空表面處理技術(shù)中的重要組成部分,其分類如表 6 所示?,F(xiàn)就其幾個(gè)主要應(yīng)用方面做一簡(jiǎn)單介紹。

  首先在光學(xué)方面,一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后,即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任何預(yù)期比例的反射或透射材料,也可以作成對(duì)某種波長(zhǎng)的吸收,而對(duì)另一種波長(zhǎng)的透射的濾色片。高反射膜從大口徑的天文望遠(yuǎn)鏡和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉,都很需要。

  增透膜則大量用于照相和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜玻璃,都很需要。增透膜則大量用于照相機(jī)和電視攝象機(jī)的鏡頭上。在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運(yùn)算器、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導(dǎo)體激光器,約瑟夫遜器件、電荷耦合器件( CCD )也都甬道各種薄膜。

  在顯示器件方面,錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯示裝置的透明導(dǎo)電膜、攝像管光導(dǎo)膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法制備。在元件方面,在真空中蒸發(fā)鎳鉻,鉻或金屬陶瓷可以制造電阻,在塑料上蒸發(fā)鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造電容器,蒸發(fā)硒可以得到靜電復(fù)印機(jī)用的硒鼓、蒸發(fā)鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發(fā)還可以用于制造超導(dǎo)膜和慣性約束巨變反應(yīng)用的微珠鍍層。

  此外還可以對(duì)珠寶、鐘表外殼表面、紡織品金屬花紋、金絲銀絲線等蒸鍍裝飾用薄膜,以及采用濺射鍍或離子鍍對(duì)刀具、模具等制造超硬膜。近兩年內(nèi)所興起的多弧離子鍍制備鈦金制品,如不銹鋼薄板、鏡面板、包柱、扶手、高檔床托架、樓梯欄桿等目前正在盛行。

表 6 真空表面處理技術(shù)的分類

表面處理目的處理方法粒子運(yùn)動(dòng)能量工作方式

等離子體高真空



薄膜沉積(表面厚度增加)PVD真空蒸發(fā)鍍膜0.1~1ev等離子熔射輝光放電分解電阻加熱蒸發(fā)加子束蒸發(fā)真空電弧蒸發(fā)真空感應(yīng)蒸發(fā)分子束外延
蔗農(nóng)濺射鍍膜10~100ev放電方式:直流、交流、高頻電極數(shù)值: 2 級(jí)、 3 級(jí)、 4 級(jí)反應(yīng)濺射、磁控濺射、對(duì)向靶濺射離子束濺射鍍膜

真空離子鍍膜數(shù) 10~5000ev直流二級(jí)型多陰極型ARE 型、增強(qiáng) AREHCD 型高頻型單一離子束鍍膜集團(tuán)離子束鍍膜

CVD化學(xué)反應(yīng)熱擴(kuò)散等離子增強(qiáng)化學(xué)氣和沉積( PCVD )低壓等離子化學(xué)氣相沉積( LPCVD )

微細(xì)加工(表面厚度減少)離子刻蝕數(shù)百 ev~ 數(shù) kev高頻濺射刻蝕等離子刻蝕反應(yīng)離子刻蝕離子束刻蝕反應(yīng)離子束刻蝕電子束刻蝕X 射線曝光
表面改性(不改變表面厚度)離子注入數(shù) kev~1000kec活性離子沖擊離子氮化離子注入


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