PVD鍍膜新技術(shù)新趨勢(shì)
來源:長(zhǎng)辰實(shí)業(yè) 日期:2019-09-25
真空電鍍?cè)O(shè)備隨著PVD電鍍技術(shù)應(yīng)用的迅速推廣,吸引了國(guó)內(nèi)外專家們和相關(guān)企業(yè)積極研發(fā),至今無論是PVD沉積技術(shù)、PVD的制備工藝,還是PVD設(shè)備配套裝備與部件,都有了長(zhǎng)足的進(jìn)步。
1.冷陰極電弧
陰極電弧技術(shù)是在真空條件下,通過低電壓和高電流的弧光放電將靶材氣化、離化成等離子體狀態(tài),從而實(shí)現(xiàn)薄膜材料的沉積。最近陰極電弧蒸發(fā)源有新的發(fā)展,主要是通過有效強(qiáng)制冷卻和電磁場(chǎng)獨(dú)特的設(shè)計(jì),在兩者共同作用下,使靶材的離化率更高,薄膜性能更加優(yōu)異。
2.磁過濾陰極弧
配以高效的電磁過濾系統(tǒng),將電弧產(chǎn)生的等離子體中的中性宏觀粒子、分子團(tuán)等大顆粒過濾干凈,經(jīng)磁過濾后沉積粒子的離化率達(dá)100%,因此制備的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蝕性能好,與基體的結(jié)合力更強(qiáng)。
3.柱狀或平面狀大面積電弧源
保證高離化率的同時(shí),減少大顆粒沉積的比例,達(dá)到既有好的附著力,又有較好的表面光潔度效果。
4.中頻磁控濺射
增加離化率,減少電荷積累引起的異常放電,預(yù)防靶表面中毒現(xiàn)象,沉積工藝更穩(wěn)定。
5.全封閉非平衡磁控濺射
通過全封閉非平衡電磁場(chǎng)的作用,極大地提高真空室內(nèi)的離化率以及沉積速率,增強(qiáng)膜基結(jié)合力和薄膜沉積的均勻性。
6.脈沖高能窄峰直流濺射
提高瞬間的轟擊能量和濺射靶材的離化率(高至50%~60%),接近電弧的離化率。通過電磁場(chǎng)的作用可以大大增加沉積離子的能量,從而改善膜層的結(jié)合力和致密性。
7.陽極層離子源輔助沉積
提高轟擊清洗的質(zhì)量,特別是可以實(shí)現(xiàn)對(duì)非導(dǎo)體的鍍前清洗,鍍膜時(shí)輔助沉積,提高沉積粒子的能量,改善膜層的結(jié)合力。
8.納米復(fù)合多層膜
納米沉積技術(shù),是涂層結(jié)構(gòu)未來的發(fā)展方向,通過納米級(jí)厚度的不同成份沉積層復(fù)合結(jié)構(gòu)膜,實(shí)現(xiàn)涂層性能的極大增強(qiáng)。
9.裝飾性雙色間鍍
單一的顏色PVD涂層已滿足不了市場(chǎng)的需求,進(jìn)而提出雙色間鍍的要求,這是裝飾涂層的發(fā)展方向,雙色間鍍的質(zhì)量成為代表PVD加工企業(yè)的生產(chǎn)技術(shù)水平標(biāo)志。
10.高能脈沖疊加直流偏壓
減少工件的打火,增加沉積離子能量,增強(qiáng)膜基結(jié)合力,提高沉積速率。
11.超低溫捕集泵
通過低溫冷凝效應(yīng),迅速捕集真空系統(tǒng)內(nèi)的殘余氣體,特別是水蒸汽,大大縮短抽真空的時(shí)間,獲得潔凈的真空環(huán)境。
12.分子泵及深冷泵
綠色環(huán)保,大大降低能耗,真空系統(tǒng)抽速穩(wěn)定,鍍膜工藝穩(wěn)定可靠,重現(xiàn)性好。深冷泵還可以抽排低飽和蒸汽壓等難抽氣體,保證真空系統(tǒng)的潔凈度。
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