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PVD真空鍍膜材料技術(shù)與濕式鍍膜材料技術(shù)相比具有明顯優(yōu)點(diǎn)：

1、膜材和基體選材廣泛，膜的厚度可以進(jìn)行控制以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。

2、真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，膜不易受到污染，因此，可獲得致密性好、純度高、膜層均勻的膜。

3、與基體附著強(qiáng)度好，膜層牢固。

4、真空鍍膜既不產(chǎn)生肺液也無(wú)環(huán)境污染。真空鍍膜技術(shù)在電子學(xué)等方面主要用來(lái)制造電阻和電容元件。

用真空鍍膜代替電久工藝，不但能節(jié)省大量的膜材和降低能耗，而且還會(huì)消除濕法鍍膜中所產(chǎn)生的污染。因此，在國(guó)內(nèi)外已大量使用真空鍍代替電鍍?yōu)殇撹F零件涂覆防腐層和保護(hù)膜，冶金工業(yè)也用來(lái)為鋼板和帶鋼加鍍鋁防護(hù)層。

塑料薄膜采用真空鍍的方法加鍍鋁等金屬膜，再進(jìn)行染色，即可得到用于紡織工業(yè)中的金銀絲等制品，或用于包裝工業(yè)中的裝飾品。